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活性炭除臭设备是等体积传统活性炭过滤设备过滤面积的2~4倍,阻力只有传统的1/2~1/3。环形活性炭净化装置由于采用切线出风,其方向不受场地条件限制可任意摆放,抽风机和设备对接极易,排放管可直接固定于设备上,系统整齐合理, 废气的产生部位比较多,并且分散在车间中,因此在处理废气之前必须先把废气收集起来,所以需要集气系统对其进行收集后统一进行处理, 在车间机器产生废气的具体部位加上密闭系统,然后安装相对应的管道,利用风机作用将废气抽出;另外,一方面在车间四周的地面部位安装一定量的鼓风机,将车间内散布的废气由下而上鼓气,另一方面在车间顶部安装抽风机,使抽气量大于鼓风量,从而车间内产生一定的低负压,保证了车间内废气不会像外扩散。抽出的废气统一由管道外送进行处理。




光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无害的产物,而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁,即使用常规的催化、氧化方法亦需要高温,燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效,其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧,大多数生成二氧化碳和水蒸气,可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时,燃烧生成产物中HCl或SO2,需要对燃烧后气体进一步处理设备。 从理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。




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